歡迎來到深圳市京都玉崎電子有限公司！
13717032088歡迎來到深圳市京都玉崎電子有限公司！
13717032088
產(chǎn)品分類 / PRODUCT
更新時間：2024-09-23 
瀏覽次數(shù)：548
| 波長 | 185納米、254納米 |
|---|---|
| 目的 | 清潔/修改 |
| 行業(yè) | 半導體制造 |
| 待安裝設備 | 半導體清洗設備 |
UV照射設備用于清洗半導體晶圓。紫外線照射會產(chǎn)生臭氧，去除晶圓表面的有機物。半導體晶圓紫外臭氧清洗設備可用于原型/開發(fā)和批量生產(chǎn)。原型機和開發(fā)機是半自動的，生產(chǎn)能力低，而量產(chǎn)機是自動化機。
UV照射設備采用185nm和254nm汞燈作為光源。當185nm紫外線被氧氣吸收時，產(chǎn)生臭氧（O3）并產(chǎn)生活性氧。
更換晶圓周邊曝光光源，成本降低30%以上
目的
接觸
行業(yè)
半導體制造
設備
涂布機開發(fā)商
波長
365nm
任務
初始成本和運行成本降低
上一篇：UV光源結構
拿起手機掃一掃
地址：龍華新區(qū)梅龍大道906號創(chuàng)業(yè)樓
郵箱：ylx@tamasaki.com
聯(lián)系人：袁蘭香Copyright © 2025深圳市京都玉崎電子有限公司 All Rights Reserved 備案號：粵ICP備2022020191號
技術支持：化工儀器網(wǎng) 管理登錄 sitemap.xml
13717032088
拿起手機掃一掃
返回頂部點
擊
隱
藏
我的位置：